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          酸堿類
          品名 英文名 分子式 級別
          SL UL VL(CMOS) EL
          過氧化氫 Hydrogen Peroxide,30% H2O2
          硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
          鹽酸 Hydrochloric Acid HCL
          硝酸 Nitric Acid,70% HNO3
          發煙硝酸 Nitric Acid Fuming HNO3
          磷酸 Phosphoric Acid H3PO4
          氫氟酸 Hydrofluoric Acid HF
          冰乙酸 Acetic Acid,Glacial CH3COOH
          氨水 Ammonium Hydroxide NH3·H2O
          氟化銨 Ammonium Fluoride,40% NH4F
          氫氧化鉀溶液 Potassium Hydroxide Liquid KOH
          C-400膽堿清洗劑 Choline Hydroxide C5H15NO2
          氫氧化鈉溶液 Sodium Hydroxide Liquid NaOH
          蝕刻液
          品名 英文名 分子式 級別
          SL UL VL(CMOS) EL
          氟化銨腐蝕液(BOE) Ammonium Fluoride Etchant NH4F·HF
          氟化銨腐蝕液(BOES) Ammonium Fluoride Etchant(with Surfactant) NH4F·HF
          鋁蝕刻液 Aluminum Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
          鉬蝕刻液 Mo Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
          鉬鋁/鉬鋁鉬蝕刻液 MoAl/MoAlMo Etchant H3PO4·HNO3·CH3COOH
          硅蝕刻液(MAE) Silicon Etchant HNO3·HF·CH3COOH
          金蝕刻液 Au Etchant KI
          銀蝕刻液 Ag Etchant H3PO4·HNO3  

          鈦蝕刻液

          Ti Etchant HF
          鉻蝕刻液 Cr Etchant HNO3CAN    
          酸性剝離液(AP-2X) Nanostrip 2XP H2SO5  
          氫氟酸腐蝕液DHF Hydrofluoric Acid(with Surfactant) HF
          ITO蝕刻液(王水) ITO Etchant HNO3·HCI    
          ITO蝕刻液(草酸) ITO Etchant H2C2O4    
          ITO蝕刻液(FeCl3) ITO Etchant FeCl3·HCl
          溶劑
          品名 英文名 分子式 級別
          SL UL VL(CMOS) EL
          甲醇 Methanol CH3OH
          乙醇 Ethanol C2H5OH
          異丙醇 IPA CH3CHOHCH3
          丙酮 Acetone (CH3)2CO
          醋酸丁酯 n-Butyl Acetate C6H12O2
          甲苯 Toluene C6H5CH3
          二甲苯 Xylenes C8H10
          三氯乙烯 Trichloroethylene C2HCl3
          環已烷 Cyclohexane C6H12
          N-甲基吡咯烷酮 N-methyl-2-pyrrolidinone CH3N(CH2)3CO
          丙二醇單甲醚 PGME PGME
          丙二醇單甲醚醋酸酯 PGMEA PGMEA
          EL級:優于美國SEME C1標準,控制1μm顆粒,控制十多個金屬元素,單項金屬元素控制在100PPb。
          VL級:介于EL與UL之間,控制0.5μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在10~100PPb。
          UL級:等同于美國SEME C7標準,控制0.5、0.3μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在10PPb以下。
          SL級:等同于美國SEME C8標準,控制0.3μm顆粒,控制三十多個金屬元素,單項金屬元素控制在1PPb以下。
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