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          超凈高純試劑系列
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          超凈高純試劑系列
          品名 英文名 分子式 級別
          SL UL VL EL
          過氧化氫 Hydrogen Peroxide,30% H2O2
          硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
          鹽酸 Hydrochloric Acid HCL
          硝酸 Nitric Acid,70% HNO3
          光刻膠配套試劑系列
          品名 英文名 型號
          負膠顯影液 Negative Photoresist Developer FX-C型
          負膠顯影液 Negative Photoresist Developer FX-D型 FX-2D型
          負膠漂洗液 Negative Photoresist Rinse FP-01型
          負膠顯影漂洗液 Negative Photoresist Developer and Rinse MD-B型、MD-C型
           
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