江陰江化微電子材料股份有限公司

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	超凈高純試劑系列
	光刻膠配套試劑系列

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超凈高純試劑系列

品名	英文名	分子式	級別
品名	英文名	分子式	SL	UL	VL	EL
過氧化氫	Hydrogen Peroxide,30%	H2O2	■	■	■	■
硫酸	Sulfuric Acid	H2SO4	■	■	■	■
鹽酸	Hydrochloric Acid	HCL	■	■	■	■
硝酸	Nitric Acid,70%	HNO3	■	■	■	■

光刻膠配套試劑系列

品名	英文名	型號
負膠顯影液	Negative Photoresist Developer	FX-C型
負膠顯影液	Negative Photoresist Developer	FX-D型 FX-2D型
負膠漂洗液	Negative Photoresist Rinse	FP-01型
負膠顯影漂洗液	Negative Photoresist Developer and Rinse	MD-B型、MD-C型

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